メトリック
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- タイトル
- 超伝導デバイスを用いたSiO2/Si界面を持つSiO2層のフォノン減衰長の測定
- 作成者 – 役職なし
- Shimada HIROSHI
- 会議
- 第85回応用物理学会秋季学術講演会
- ID
- 991002577674007421
- 組織
- The University of Electro-Communications
- 言語
- 日本語
- 資料タイプ
- 会議発表プレゼンテーション
- リソースのサブタイプ
- rm_presentations: Oral Presentation
会議発表プレゼンテーション
超伝導デバイスを用いたSiO2/Si界面を持つSiO2層のフォノン減衰長の測定
第85回応用物理学会秋季学術講演会
19/09/2024