- タイトル
- Atomically Precise Deposition of (Er0.1Y0.9)2SiO5 Combined with Digitally Processed DC Sputtering and Non-Radical Oxidation
- 作成者 – 役職なし
- Hideo ISSHIKI
- 出版物に関する詳細
- Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.40(5), ページ053406-1-053406-6
- 出版者
- American Institute of Physics
- ID
- 991002547327107421
- 組織
- The University of Electro-Communications
- 言語
- 英語
- 資料タイプ
- ジャーナル論文
- リソースのサブタイプ
- rm_published_papers: Scientific Journal
ジャーナル論文 - rm_published_papers: Scientific Journal
Atomically Precise Deposition of (Er0.1Y0.9)2SiO5 Combined with Digitally Processed DC Sputtering and Non-Radical Oxidation
Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.40(5), ページ053406-1-053406-6
01/09/2022
メトリック
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