In-plane strain effects on dielectric properties of the HfO2 thin film

Natori AKIKO

doi:10.1116/1.3155823

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In-plane strain effects on dielectric properties of the HfO2 thin film

ジャーナル論文 - rm_published_papers: Scientific Journal

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In-plane strain effects on dielectric properties of the HfO2 thin film

Natori AKIKO

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, Vol.27(4), ページ2020-2023

07/2009

DOI: https://doi.org/10.1116/1.3155823

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タイトル: In-plane strain effects on dielectric properties of the HfO2 thin film
作成者 – 役職なし: Natori AKIKO
出版物に関する詳細: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, Vol.27(4), ページ2020-2023
ID: 991002548777207421
組織: The University of Electro-Communications
言語: 英語
資料タイプ: ジャーナル論文
リソースのサブタイプ: rm_published_papers: Scientific Journal