Preferential resputtering phenomenon on the surface of (100)-oriented Ni-Pt films: Effect of substrate bias during sputter deposition

ジャーナル論文 - rm_published_papers: Scientific Journal

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Journal of Vacuum Science and Technology, Part A: Vacuum, Surfaces and Films, Vol.19(6), ページ2979-2981

11/2001

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タイトル: Preferential resputtering phenomenon on the surface of (100)-oriented Ni-Pt films: Effect of substrate bias during sputter deposition
作成者 – 役職なし: Hashimoto MITURU
出版物に関する詳細: Journal of Vacuum Science and Technology, Part A: Vacuum, Surfaces and Films, Vol.19(6), ページ2979-2981
ID: 991002546603807421
組織: The University of Electro-Communications
言語: 英語
資料タイプ: ジャーナル論文
リソースのサブタイプ: rm_published_papers: Scientific Journal