抄録
Publication Number: -, Announcement Number: 2009-41080, Right Holder: -, Applicant Country: -, Acquisition Country: -
- タイトル
- 酸化膜形成方法、MOSデバイス製造方法、MOSトランジスタ製造方法、SiOx粉末、及びSiOx粉末製造方法
- 作成者 – 役職なし
- Shinji NOZAKI
- ID
- 991002558362207421
- 組織
- The University of Electro-Communications
- 資料タイプ
- 特許
- リソースのサブタイプ
- rm_industrial_property_rights: Patent Right